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利用磁控射频溅射技术制备了ITO薄膜。
在不同条件下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。
本文用光谱分析的方法研究低温反应射频溅射生长的A1N薄膜。
采用磁控射频溅射法制备光波导用玻璃薄膜。
用射频溅射的方法制备得的钆钴膜具有垂直于膜面的单轴各向异性。
射频溅射沉积的薄膜均匀性和致密性要优于直流溅射沉积的薄膜。
资源编号：ZY1253313；资源类别：(造句参考大全)；收集时间：2020-05-04；资源参考链接
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